Titelaufnahme

Titel
The chemistry of nonasilane / vorgelegt von BSc. Viktor-Stavros Christopoulos
Verfasser/ VerfasserinChristopoulos, Viktor-Stavros
ErschienenGraz, Januar 2017
Umfang81 Blätter : Diagramme
HochschulschriftKarl-Franzens-Universität Graz, Masterarbeit, 2017
SpracheEnglisch
DokumenttypMasterarbeit
Schlagwörter (GND)Silane / Chemische Synthese
URNurn:nbn:at:at-ubg:1-109377 Persistent Identifier (URN)
Zugriffsbeschränkung
 Das Werk ist frei verfügbar
Dateien
The chemistry of nonasilane [2.9 mb]
Links
Nachweis
Klassifikation
Zusammenfassung (Deutsch)

Obwohl Hydrosilan-Oligomere SinHm (n > 3) mit linearen, verzweigten oder zykli-schen Strukturen schon seit über 40 Jahren bekannt sind, verblieb diese Chemie seither dennoch nahezu unerforscht, was hauptsächlich auf ihre limitierten Zu-gänglichkeit und ihre ungünstigen Eigenschaften zurückzuführen ist. Seit neu-estem wurde herausgefunden, dass Cyclopolysilane SinH2n (n = 5,6) als Grund-stoffe für die Flüssigabscheidung von Siliziumschichten verwendet werden kön-nen, was eine beträchtliche Reduktion an Herstellungskosten im Vergleich zur üblichen Gasphasenabscheidung (CVD) bedeutet. Diese Grundstoffe bringen jedoch auch ungünstige Eigenschaften wie Leichtflüchtigkeit und Pyrophorizität mit sich. Ziel dieser Arbeit war es daher aus diesem Grund, mögliche Synthese-routen zu Nonasilan (Si9H18) zu untersuchen, welches überlegene Eigenschaf-ten bezüglich der Flüssigphasenabscheidung aufweisen könnte.

Zusammenfassung (Englisch)

Although hydrosilane oligomers SinHm (n > 3) with linear, branched or cyclic structures are known for more than 40 years, their chemistry still remained nearly unexplored since then, which is mainly due to their limited accessibility and their disadvantageous properties. Just recently it has been found that cyclopolysilanes SinH2n (n = 5,6) and neopentasilane (NPS) can be used as precursors for the so-lution-based deposition of silicon layers allowing significant reduction of pro-cessing costs in photovoltaic applications as compared to standard vacuum-based (CVD) approaches. However, these precursors entail some unfavourable properties like their unsuitable volatility and their undesirable pyrophoric charac-ter on contact with air. Thus, this work aims to investigate a possible synthetic route to nonasilane (Si9H18) and its various functionalized variations, which could display improved characteristics for liquid phase silicon deposition (LPD).